随着国内半导体产业迅速发展，电子气体等材料领域亦迎来机遇，近年来相关项目正在陆续投建。
半导体联盟消息，随着国内半导体产业迅速发展，电子气体等材料领域亦迎来机遇，近年来相关项目正在陆续投建。日前，昊华化工科技集团股份有限公司（以下简称“昊华科技”）发布公告，为发展公司电子化学品产业，公司全资子公司黎明化工研究设计院有限责任公司（以下简称“黎明院”）拟投资建设4600吨/年特种含氟电子气体项目。
资料显示，昊华科技的实际控制人为中国化工集团有限公司，主营业务为氟材料、特种气体、特种橡塑制品、精细化学品和技术服务五大板块。这次项目的建设主体黎明院为昊华科技旗下全资子公司，其前身黎明化工研究院是原化学工业部综合性研究院，主营业务包括化学推进剂及原材料、聚氨酯新材料、含氟气体材料、过氧化氢及配套原材料等4个专业板块。
昊华科技指出，电子气体在半导体领域具有广泛的应用，是半导体生产过程中的重要原料之一。近年来，随着下游半导体、电子器件等市场的快速发展，我国电子气体市场规模不断增大。经过近几年系列特种含氟电子气体的开发与推广，黎明院已成为国内特种含氟电子气体的供应商之一，为了进一步完善特种含氟电子气体产业链，满足国内市场需求，黎明院计划新建年产4600吨特种电子气体项目。
根据公告，4600吨/年特种含氟电子气体项目总投资9.14亿元，资金来源于黎明院自有资金与银行贷款。项目将采用黎明院自主研发专利技术生产特种含氟气体总产能4600吨/年，包括3000吨/年三氟化氮、1000吨/年四氟化碳和600吨/年六氟化钨。
可行性分析指出，近年来中国液晶面板行业、太阳能行业以及半导体行业发展迅猛，对其支撑原材料之一的特种含氟电子气体的需求呈直线上升趋势，并将在未来一定时期维持上涨态势。因此，建设特种含氟电子气体产业化项目有良好的市场前景，原材料供应有保障，产品需求增速快，符合市场发展。
此外，电子级三氟化氮、四氟化碳和六氟化钨被列为《国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006-2020年）》中加快高新技术产业化项目以及国家“863计划”支持鼓励的重点新型信息用气体材料。关键材料电子气体国产化、规模化对保障国家经济安全和增强综合国力具有重大战略意义。
据了解，电子级三氟化氮主要用于电子元件的等离子蚀刻及清洗，具有优异的蚀刻速率和选择性、对表面无污染。四氟化碳是目前半导体行业最主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。六氟化钨在电子工业中作为金属钨化学气相沉积(CVD)工艺的原材料，用它制成的WSi2可用作大规模集成电路(LSI)中的配线材料，还可用作半导体电极和导电浆糊等的原材料。
昊华科技表示，本次投资建设的4600吨/年特种含氟电子气体建设项目，进一步完善了特种含氟电子气体产业链，能够更好的满足国内市场的需求，对提高企业经济效益、抗风险能力以及增强可持续发展能力具有重要意义。项目达产后，会进一步提升公司的营业收入和净利润，进而会提高公司的综合竞争力。
目前，该项目已完成政府备案手续，环境影响评价已获批复，职业病危害预评价已通过专家评审，昊华科技董事会亦已审议通过。
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