富士通FujiFilm 于2019年9月2日推出LTO Ultrium8盒式磁带（LTO-8）。
中存储网消息，富士通FujiFilm 于2019年9月2日推出LTO Ultrium8盒式磁带（LTO-8）。
LTO-8 遵循第8代LTO Ultrium （*）磁带存储介质标准，允许使用具有记录/检索性能的钡铁氧体（BaFe）磁性颗粒备份和存档大容量数据，长期耐用。它提供30TB的存储容量（非压缩数据为12TB），是上一代容量的两倍（**）。它还能够以750MB / s的速度传输数据（非压缩时为360MB / s），它以低成本提供海量数据的安全和长期存储。
近年来，随着高清4K和8K视频的扩展，物联网和ICT的发展以及人工智能在大数据分析中的应用，全球产生的数据量呈指数增长。这包括“冷数据”或很久以前生成且很少访问的数据，估计占所有数据的80％以上。
随着包括冷数据在内的累积数据的利用率迅速增加，对这些数据的可靠且成本有效的长期存储的需求也将增加，以备将来使用。多年来，磁带已经在主要数据中心和研究机构中使用，因为磁带提供了大容量存储，低成本和长期存储性能，并且还创建了“气隙”数据保护，与网络物理隔离，从而最大限度地减少了磁带。网络攻击造成数据损坏或丢失的风险。未来，磁带有望用于生成大量数据的研究领域，例如基于AI / IoT的智能制造，以实现高质量和高效率的生产，以及未来的联网汽车。
富士通公司已开发出具有磁性和长期储存性能的优质BaFe磁性颗粒，并于2011年推出了世界上第一个商用BaFe储存盒。2012年，该公司推出LTO-6，这是第一款使用BaFe的LTO Ultrium标准数据盒产品磁性粒子。预见到传统金属磁性颗粒的容量限制，该公司早期的BaFe磁带商业化使该公司能够引领市场。
通过LTO-8，富士通公司进一步开发了NanoCubic技术（***），以生产比LTO-7中使用的更小的BaFe磁性颗粒。通过受控的分散工艺分离磁性颗粒，并控制带表面粗糙度，通过增强的NANO涂层技术实现磁性层的光滑表面。通过这种方式，该公司将存储容量提高到30TB（非压缩数据为12TB），是LTO-7容量的两倍，高速数据传输速率达到750MB / s（非压缩数据为360MB / s）。此外，适当的材料设计允许磁带驱动器中磁头的跟踪性能和耐用性，提高稳定性和性能。
（*） Linear Tape-Open，LTO，LTO徽标，Ultrium和Ultrium徽标是Hewlett Packard Enterprise，IBM和Quantum在美国和其他国家/地区的注册商标。
（**） LTO Ultrium7数据盒式磁带符合第7代LTO Ultrium标准
（***）富士胶片基于纳米技术的磁带技术，采用薄涂层实现高密度磁数据记录。它包括用于将磁性颗粒配制成纳米尺寸颗粒的“纳米颗粒技术”，用于均匀分散和排列纳米尺寸磁性颗粒的“纳米分散技术”，以及用于实现纳米尺寸磁性颗粒涂层的“纳米涂层技术”。超薄层。
（* 4）制造商份额，根据Fujifilm数据
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